MOLESKINE DETOUR 2.0 SHANGHAI

激发创造力

Moleskine与K11联合举办品牌标志性巡回展览——Detour 2.0。展览将于2021年11月14日至12月 15日在上海K11地下二层举办，届时将有一批享誉国际的中外创作者参与其中。

上海，2021年11月——Detour作为一个巡回群展，展出众多由国际知名艺术家、建筑师、电影导演、平面设计师、音乐家、插画家和作家在Moleskine笔记本呈现的创造力。观众可以通过展览探索和发现从Moleskine白色纸张上的他们的创作思路及过程。

展览作品包含了大量的文字故事和插画叙述，当中有的还被创意变化为雕塑、当代艺术和设计作品。这个Moleskine举办的独特巡回展已先后于伦敦（2006）、纽约（2007）、巴黎（2008）、柏林（2008）、伊斯坦布尔（2009）、东京（2009）、威尼斯（2010）、上海（2010）举行。

而上海将成为Detour新巡展之旅的起点。Moleskine在2010年成功举办Detour之后再次回到中国，与上海K11合作，带来全新展览——Detour 2.0，以展现和激发来自中国和世界的创造力。

“选择中国作为Detour2.0的开启对于我来说意义非凡，希望借此共同庆祝Moleskine与中国消费者缔结的深厚连接。中国历史悠久、文化底蕴丰厚、创意天赋辈出，这些都是我们，作为品牌，想要通过这次展览与中国消费者一起分享和庆祝的。” Moleskine CEO Daniela Reccardi女士表示。Moleskine大中华区负责人袁玉麟（Winson Yuen）、Francesco D’Arelius（意大利驻沪文化处参赞）、吴夷骏（K11中国市场总监）、吴晓梅（Seesaw创始人及CEO）到场庆祝并致辞。

Detour 2.0由Jérémie Thircuir先生与王璐璐女士共同策展。18位新晋中外艺术家、建筑师和设计师参与了Moleskine Detour 2.0巡展：任天进、高幼军、蒋志、毛冠帅、Lok Ng 王若晗、庄颖、Aldo Cibi、Yann Debelle De Montby、刘树伟、郭鸿蔚、吴滨、裘淑婷、梁伟、Lionel Legal、孟阳阳、童昆鸟、张小黎。他们的作品将成为这个激发创造力展览的一部分，也凸显了文化交流、创造力激发及社会推动发展的强有力量。

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